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TDL(R)-J40型光学晶体炉

  • 时间:2017-10-25 10:50:20
  • 来源:技术研究院

主要内容

该炉是用直拉法控制激光固体材料(如钇铝石榴石,铝酸钇等)单晶体的专用设备。它可以在大气或充入各种纯净保护气体下工作。曾获机械工业部和陕西省科技进步二等奖。

性能指标

该设备的主要性能指标如下:

炉室尺寸:Φ400mm;

采用中频加热电源:20KW,2500HZ;

采用电阻加热电源:42KVA;

最高加热温度:2100℃;

最大投料量:3kg;

籽晶在炉内行程:300mm。

使用范围及市场预测

该设备系生产各种光学晶体,如YAG YAP、各种宝石、化合物、气化物晶体材料用,由于材料种类多,系高科技领域新材料中的关键设备,市场前景良好,年需求10~20台套。

投产条件及效益分析

该设备系机电一体化,要求较高的技术,对真空气密、高温、自动控制、计算机等多学科领域都有较高的要求。

现售价15~24万元/台,有较好的经济效益和社会效益。

服务方式

? 生产定型产品,外售。