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机电一体化
一种用于磁控溅射工艺的电弧检测及抑制方法
申请号: CN201410012623.0 专利类型: 发明
首次公开日: 20140507 所在行业: 机电一体化
申请日: 20140110 专利权人:
授权日: 20160406 法律效力:
摘要: 本发明公开了一种用于磁控溅射工艺的电弧检测及抑制方法,由电压霍尔传感器和电流霍尔传感器实施对磁控溅射电源负载电压和负载电流的采样,采用电压电流共同变化阈值检测方法作为电弧检测判定依据,如果判定没有电弧,则维持当前状态;当检测到电弧时,则立即通过降低输出电压幅值来进行抑制;当累积产生超过设定数量的电弧时,则强行对靶(“阴极”)进行清洗。本发明方法,能够更可靠、更高效、更全面地检测电弧的出现,尽可能减少了工艺区间的丢失,从而提高了磁控溅射镀膜工艺的效率和膜层的质量。